EUV光刻视频概述提示

解释为什么EUV在每次反射时都会损失光，然后追踪衍射级次：掩模→两组面阵列→晶圆。用纸面图解说明等光程、镀膜和反向掩模设计。展示4倍缩小、数值孔径最高达0.993，以及模拟出的5.4纳米半高全宽峰。澄清50–60%是接受的级次透射率，而不是扫描仪效率；3D设计包含2，256个面。最后说明周期性图案限制、对准、相干性以及未经测试的抗蚀剂打印。使用通俗英语，定义术语，避免夸张。