EUV 리소그래피 비디오 개요 프롬프트

EUV가 각 반사에서 빛을 잃는 이유를 설명한 다음, 회절 차수(diffraction orders)를 마스크 → 두 개의 패싯 배열(facet arrays) → 웨이퍼 순서로 추적하십시오. 종이 다이어그램을 사용하여 동일한 광경로(equal optical paths), 코팅 및 역마스크 설계(inverse mask design)를 설명하십시오. 4배 축소, NA 최대 0.993, 시뮬레이션된 5.4 nm FWHM 피크를 보여주십시오. 50–60%가 허용된 차수 전송(accepted order transmission)이며 스캐너 효율이 아님을 명확히 하고, 3D 설계에는 2,256개의 패싯이 있음을 밝히십시오. 주기적 패턴 한계, 정렬, 간섭성 및 테스트되지 않은 레지스트 프린팅으로 마무리하십시오. 평이한 영어를 사용하고, 용어를 정의하며, 과장을 피하십시오.